이름 : 허정준

Tel : 031-750-8736

E-Mail : jjhur@gachon.ac.kr

MoSi2(Molibdenium Disilicide) 발열체를 이용하여 1800°C 까지의 고온열처리가 가능하며 고온에서의 여러 가지 열처리 목적으로 사용되는 장비이다. 에너지 하베스터용 박막 제작을 위한 스퍼터링 타겟 제작 등의 신터링시 고온 열처리 장치로서 기타 고온 열처리가 필요한 분말 소재 합성 및 박막 형성시 기판의 열처리가 가능하다.

발열 성능 

  열처리온도 : 1750도 이상 

  고품질, 고순도의 MoSi2 발열체 사용 및 발열체를 상시 활성화할 수 있는 스위

  칭 시스템 

열처리 이력 프로그래밍 가능 

  P470 controller를 통해 50개 program, 40개 segments 세부 설정 가능 

  USB 메모리로 공정 데이터 기록 가능 

고내구성 설계 

  텍스처 처리된 스테인리스스틸 시트로 구성된 하우징 및 고내구성 1급 섬유재료    코팅 챔버 

방열 설계 

  낮은 표면온도를 위해 추가 냉각기가 장착된 이중벽 하우징 

  조절가능한 공기 흡입구 및 천장 부에 위치한 배기구 

- 고온 구동시 안정성 있는 광범위 온도 구간 구현 가능

- 고온 열처리가 필요한 이원계 및 삼원계 원소합성을 위한 1750도 이상의 발열성능 유지 가능