이름 : 맹기룡

Tel : 031-750-8726

E-Mail : xrd1@gachon.ac.kr

플라즈마는 표면 패터닝을 용이하게 하기 위하여 다양한 방식으로 사용될 수 있으며 태양전지, 센서 및 미세 유체 칩과 같은 다층 장치의 제조를 위하여 필요한 처리단계이다. 플라즈마 클리닝은 기판 및 템플릿의 표면 습윤성을 향상시켜 접촉 인쇄 및 자기조립 동안 패턴 전사를 개선할 수 있다. 플라즈마 에칭을 이용하여 마스킹 층을 통해 중합체 박막 및 2D 유기물질을 선택적으로 제거할 수 있고 패턴화 된 나노 구조 어레이를 제조하기 위한 중합체 주형의 특징 크기를 조정할 수 있는 장비이다.  

Compact, tabletop unit 

Adjustable RF power (Low, Medium, and High power settings) 

Applies a maximum of 18W to the RF coil 

Includes a 3" diameter x 6.5" length Pyrex chamber 

Hinged door with viewing window 

Active fan cooling 

1/8" NPT metering valve to qualitatively control gas flow and chamber pressure 

1/8" NPT 3-way valve to quickly switch from introducing gas, venting, and isolating the chamber 

Weight : 13lbs 

Size : 8.5" H x 10" W x 8" D

- 광학 재료의 클리닝

- 폴리머 및 생체 재료 등의 재료 및 기구 멸균

- 마이크로 유체 공학